《X射線衍射理論與實(shí)踐》(Ⅰ)介紹了X射線衍射學(xué)的基礎(chǔ)理論和粉末X射線衍射的原理、儀器測(cè)試技術(shù)和數(shù)據(jù)處理方法。主要內(nèi)容包括X射線的產(chǎn)生和性質(zhì)、晶體學(xué)基礎(chǔ)、X射線衍射幾何與衍射強(qiáng)度理論,并介紹了各種X射線衍射實(shí)驗(yàn)方法和數(shù)據(jù)處理方法,包括X射線衍射儀和數(shù)據(jù)采集方法、數(shù)據(jù)的基本處理方法、物相定性分析、物相定量方法、結(jié)晶度計(jì)算

《X射線衍射理論與實(shí)踐》(Ⅱ)包括X射線衍射分析的3個(gè)專(zhuān)題應(yīng)用和Rietveld全譜擬合精修方法。專(zhuān)題應(yīng)用包括：宏觀內(nèi)應(yīng)力的測(cè)量(第1章)、織構(gòu)的測(cè)定與分析(第2章)和非晶態(tài)物質(zhì)的X射線衍射分析(第6章)。每個(gè)專(zhuān)題應(yīng)用都包括4個(gè)環(huán)節(jié)：從基礎(chǔ)理論開(kāi)始，導(dǎo)出實(shí)驗(yàn)原理和實(shí)驗(yàn)方法，最后結(jié)合科研需要，通過(guò)應(yīng)用實(shí)例講解，進(jìn)行操作技

本書(shū)將基礎(chǔ)性光學(xué)原理用于光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)和像差平衡，定位于闡述光學(xué)設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)總體設(shè)計(jì)原理與光學(xué)鏡頭設(shè)計(jì)基礎(chǔ)。本書(shū)分為幾何光學(xué)、像差理論、典型光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)四部分，各部分均反映了光學(xué)與光電子學(xué)的進(jìn)展和光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)的新發(fā)展。其中，幾何光學(xué)和像差理論詳細(xì)講述了光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)基本理論；典型光學(xué)系統(tǒng)包括眼睛，顯微和望遠(yuǎn)光學(xué)

本書(shū)主要闡述常用光譜分析方法的基本原理、特點(diǎn)、應(yīng)用及儀器的結(jié)構(gòu)和工作原理。全書(shū)共5章，包括光譜分析法概論、原子發(fā)射光譜法、原子吸收光譜法、X射線熒光光譜法、分子發(fā)光光譜法。 本書(shū)可作為高等學(xué)�；瘜W(xué)、化工、應(yīng)用化學(xué)及相關(guān)專(zhuān)業(yè)的教材，也可供從事光譜分析測(cè)試工作的人員參考。

本書(shū)從全球氣候變化的角度，系統(tǒng)總結(jié)了紫外輻射生態(tài)學(xué)的**研究成果。作者將近20年來(lái)的科研成果與國(guó)內(nèi)外研究進(jìn)展相結(jié)合，在概述大氣臭氧衰減與地表UV-B輻射增強(qiáng)的基礎(chǔ)上，全面闡述了地表UV-B輻射增強(qiáng)對(duì)植物生長(zhǎng)和植物生產(chǎn)力的影響，并系統(tǒng)分析了UV-B輻射對(duì)植物生長(zhǎng)發(fā)育過(guò)程中代謝和形態(tài)建成的調(diào)控作用，歸納了UV-B輻射傷害植

本書(shū)是偉大的物理學(xué)家ArnoldSommerfeld的“理論物理學(xué)教程”第四卷《光學(xué)》的中文翻譯,書(shū)中對(duì)光的反射與折射、運(yùn)動(dòng)介質(zhì)和運(yùn)動(dòng)光源光學(xué)、色散理論、晶體光學(xué)和衍射理論的物理和數(shù)學(xué)原理作了系統(tǒng)和深刻的討論,其中若干成果是他本人及其學(xué)生的創(chuàng)造性貢獻(xiàn).

《Z-掃描非線性光學(xué)表征技術(shù)》主要內(nèi)容包括三個(gè)部分：介紹多種三階非線性光學(xué)效應(yīng)的物理機(jī)理和三階非線性光學(xué)表征技術(shù)，詳細(xì)介紹Z-掃描表征技術(shù)，討論Z-掃描技術(shù)表征高階光學(xué)非線性效應(yīng)、飽和非線性光學(xué)效應(yīng)、各向異性非線性光學(xué)效應(yīng)，介紹多種改進(jìn)型Z-掃描技術(shù)；介紹包括溶劑、有機(jī)分子、玻璃、鐵電薄膜、半導(dǎo)體、二維材料和近零折射率

本書(shū)是全國(guó)科學(xué)技術(shù)名詞審定委員會(huì)審定公布的光學(xué)名詞，內(nèi)容包括:基礎(chǔ)光學(xué)，非線性光學(xué)與量子光學(xué)，微納光學(xué)與近場(chǎng)光學(xué)，發(fā)光學(xué)，色度學(xué)，光學(xué)材料，光學(xué)薄膜，光纖光學(xué)與導(dǎo)波光學(xué)，光無(wú)源器件，光源，光有源器件，光電檢測(cè)與光學(xué)傳感器，一般光學(xué)系統(tǒng)與光學(xué)設(shè)計(jì)，成像技術(shù)，影像技術(shù)，顯示技術(shù)，圖像處理技術(shù)，光學(xué)儀器I：基本結(jié)構(gòu)與光參數(shù)檢

本書(shū)分五章，內(nèi)容包括：幾種不同類(lèi)型的空間結(jié)構(gòu)光場(chǎng)的定制、空間結(jié)構(gòu)光場(chǎng)的模式變換技術(shù)、空間結(jié)構(gòu)光場(chǎng)中陣列光學(xué)渦旋的構(gòu)建及調(diào)控、空間結(jié)構(gòu)光場(chǎng)的拓?fù)浜芍禉z測(cè)等。