本書分為三個部分。第一部分介紹了等離子體和塵埃等離子體的研究背景,包括塵埃等離子體的來源、形成、特性及相關(guān)應用,塵埃等離子體的主要研究方法、塵埃的充電過程、波動傳播、塵埃晶格的性質(zhì)和塵埃晶格波,從塵埃等離子體的流體方程出發(fā),研究了極化力和電荷梯度力對塵埃等離子體鞘層的影響。第二部分為受控隱形傳態(tài)與受控超密編碼

本書共四章，主要內(nèi)容包括等離子體技術(shù)中的基本概念與特性、等離子體生成方法、等離子體實驗技術(shù)和診斷技術(shù)、小型等離子體設備的試驗實例等。本書作者對等離子體的基本概念、理論、規(guī)律和研究方法的闡述與討論既簡明直觀，又不失其嚴謹性；書中介紹的等離子體生成技術(shù)，包含了不同放電機理和不同等離子體源條件，內(nèi)容完整具體；書中介紹等離子體

本書共四章,主要內(nèi)容包括等離子體技術(shù)中的基本概念與特性、等離子體生成方法、等離子體實驗技術(shù)和診斷技術(shù)、小型等離子體設備的試驗實例等。本書作者對等離子體的基本概念、理論、規(guī)律和研究方法的闡述與討論既簡明直觀,又不失其嚴謹性;書中介紹的等離子體生成技術(shù),包含了不同放電機理和不同等離子體源條件,內(nèi)容完整具體;書中介紹等離子體

本書介紹了低氣壓和大氣壓等離子體技術(shù)在多個技術(shù)領域中的研究進展，主要內(nèi)容包括等離子體在高分子材料、半導體、太陽能電池、生物材料、平面顯示、水處理和火箭推進等技術(shù)領域的應用，也包含等離子體生成與控制方法、等離子體源及反應器設計、等離子體診斷、等離子體應用建模和仿真等。

《等離子體高能合成射流》介紹等離子體高能合成射流及其高速主動流動控制技術(shù)研究成果，內(nèi)容包括緒論、等離子體高能合成射流模型及測量方法、等離子體高能合成射流放電及能量效率特性、等離子體高能合成射流流場特性、等離子體高能合成射流陣列工作特性、等離子體高能合成射流在航空航天領域的應用等。

等離子體技術(shù)是推動高技術(shù)發(fā)展和傳統(tǒng)工業(yè)升級改造甚至改變世界的動力源泉之一�！兜入x子體物理學導論:原書第三版》圍繞等離子體技術(shù)的聚變應用，介紹了等離子體基本概念、微觀的單粒子運動基礎理論、宏觀的流體力學基礎理論、波動與輸運現(xiàn)象、平衡與穩(wěn)定性現(xiàn)象、動理學理論與阻尼現(xiàn)象，以及鞘層等其他非線性現(xiàn)象。為了拓寬讀者視野，《等離子體

專著，大氣壓等離子體射流（N-APPJs）能夠通過氣體放電產(chǎn)生高密度帶電粒子和活性成分，在高超音速飛行器發(fā)動機助燃、癌癥治療等領域有著重要應用，對國家高科技實力的提高有著顯著意義。本書針對N-APPJs的物理基礎進行詳細的介紹，主要從形成機理、控制規(guī)律和調(diào)控方法等方面展開介紹。第一章系統(tǒng)地介紹N-APPJs的發(fā)展歷史以

低溫等離子體被廣泛應用于脈沖激光沉積、磁控濺射、等離子體增強化學氣相沉積等現(xiàn)代半導體薄膜真空沉積技術(shù)中，并承擔著薄膜組分物質(zhì)輸運、薄膜形核與生長動力學調(diào)控等關(guān)鍵性角色。由于等離子體性質(zhì)是聯(lián)系薄膜真空沉積條件與沉積性能的關(guān)鍵性紐帶，以對等離子體性質(zhì)的表征與探測為突破口并建立其與薄膜沉積條件和性能之間的基礎關(guān)系，有助于從理

本書闡述了低溫等離子體診斷的基本原理與重要技術(shù)。從等離子體的基本概念與性質(zhì)、低溫等離子體的產(chǎn)生方法和等離子體中的基本化學過程，到低溫等離子體的探針診斷技術(shù)及其應用、光譜診斷技術(shù)及其應用、質(zhì)譜診斷技術(shù)及其應用、離子能量診斷技術(shù)及其應用、波干涉診斷技術(shù)、等離子體阻抗分析技術(shù)及其應用，較全面地介紹了低溫等離子體診斷的基礎知識

本書共分7章：章緒論；第2章介紹云紋干涉法、電子束云紋法、納米壓痕法以及幾何相位分析法的基本原理；第3～7章主要為應用上述實驗方法研究復合材料界面細觀力學性能的實例，包括復合材料表面高頻正交光柵制備、界面基本力學性能研究、復合材料細觀蠕變性能研究、復合材料裂紋應變場以及界面殘余應力的相關(guān)研究。本書可供材料研究與開發(fā)的科