結(jié)晶化學(xué)導(dǎo)論（第4版）

本書將礦物材料與固廢資源高效開發(fā)利用緊密結(jié)合，闡述了脫硫石膏在酸性低鹽溶液中水熱制備晶須涉及的理論與技術(shù)。內(nèi)容包括：無機鹽添加劑對脫硫石膏溶液組成和晶須制備的影響、晶須制備宏觀參數(shù)與微觀參數(shù)之間定量關(guān)系、脫硫石膏晶須水熱生長動力學(xué)、無機鹽陰陽離子作用機理、晶須晶體結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化規(guī)律、脫硫石膏晶須綠色制備與應(yīng)用探索等。

本書介紹了液封提拉法生長晶體技術(shù)的特點及研究現(xiàn)狀、藍(lán)寶石單晶生長技術(shù)的現(xiàn)代趨勢和應(yīng)用進展,重點討論了基于液封提拉法制備藍(lán)寶石晶體、硅單晶的熱毛細(xì)對流的線性穩(wěn)定性分析方法,給出了微重力條件下、常重力條件下,5cSt硅油/HT-70、B2O3/藍(lán)寶石熔體工質(zhì)對在上部為自由表面的熱毛細(xì)對流、上部為自由表面的浮力-熱毛細(xì)對流、

Fe4N材料屬于新型功能材料,在自旋電子學(xué)、微電子學(xué)等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價值,本書可以使讀者對Fe4N材料進行詳細(xì)的了解,稿件從引言、反鈣鈦礦結(jié)構(gòu)Fe4N多晶薄膜、反鈣鈦礦結(jié)構(gòu)Fe4N外延薄膜、摻雜對Fe4N薄膜的影響、反鈣鈦礦結(jié)構(gòu)Fe4N/半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu)、反鈣鈦礦結(jié)構(gòu)Fe4N-反鐵磁性異質(zhì)結(jié)構(gòu)、反鈣鈦礦結(jié)構(gòu)Fe4N基多

本書主要分為兩大部分：第一部分全面總結(jié)研究特別是我國30年來含氟液晶研究進展，并介紹液晶的分類，液晶的分子理論，液晶相變與測試方法，液晶分子結(jié)構(gòu)與液晶性，液晶的氟化學(xué)等；第二部分重點闡述各種含氟液晶的特點、合成方法及應(yīng)用，比如甾類液晶、含氟非極性液晶、含氟極性液晶、含氟鐵電液晶、含氟偶氮液晶、聚合物梳形含氟液晶等。

本書介紹了具有光子帶隙或特定方向上具有周期性的混合型光子晶體，闡述了光子晶體局域光的能力及其在濾波器、分束器等器件上的應(yīng)用，具體包括：復(fù)合電介質(zhì)的電磁學(xué)理論、對稱性與固態(tài)電磁學(xué)理論、一維光子晶體、二維光子晶體、三維光子晶體、周期性介電波導(dǎo)、平板光子晶體、光子晶體光纖等內(nèi)容。

芯片，是集成電路也是硅片，是微電子技術(shù)的主要產(chǎn)品，計算機芯片是一種用硅制成的薄片，硅晶體的結(jié)構(gòu)理論及應(yīng)用，在芯片制造中起著關(guān)鍵的基礎(chǔ)作用，高純度的硅晶體能夠控制電能泄露、減少電能需求，降低芯片發(fā)熱量，芯片的結(jié)晶過程與技術(shù)的研究是芯片生產(chǎn)制造的重要基礎(chǔ)環(huán)節(jié)。本書系世界學(xué)術(shù)研究前沿叢書之一，采用全英文出版，主要選擇近3年世

本書系統(tǒng)論述晶體學(xué)基礎(chǔ)理論，使學(xué)生理解和掌握晶體學(xué)基本原理和規(guī)律。全書共分11章。第1章簡明介紹了晶體的概念和共性，第2～6章系統(tǒng)地闡述了晶體的對稱、十四種布拉菲空間格子和晶胞、晶體的理想形態(tài)、結(jié)晶學(xué)的定向和結(jié)晶符號、晶體內(nèi)部結(jié)構(gòu)的對稱要素等幾何結(jié)晶學(xué)的基本知識，第7章較為詳細(xì)闡述晶體化學(xué)涉及的基本原理，第8章、第9章

本書屬Springer材料科學(xué)系列教材之一，主要內(nèi)容涉及目前蓬勃發(fā)展的高亮度可見光LED及照明工程等相關(guān)領(lǐng)域。包含的內(nèi)容主要有：GaN體材料的應(yīng)用前景、GaN材料的鹵化物氣相外延生長技術(shù)、采用GaN籽晶技術(shù)生長GaN體材料、采用真空輔助技術(shù)生長自支撐GaN襯底、采用鹵化物氣相外延生長技術(shù)生長非極性與半極性GaN、GaN

本書主要分為兩大部分：第一部分全面總結(jié)我國30年來含氟液晶的研究進展，并介紹液晶的分類，液晶的分子理論，液晶相變與測試方法，液晶分子結(jié)構(gòu)與液晶性，液晶的氟化學(xué)等；第二部分重點闡述各種含氟液晶的特點、合成方法及應(yīng)用，比如甾類液晶、含氟非極性液晶、含氟極性液晶、含氟鐵電液晶、含氟偶氮液晶、聚合物梳形含氟液晶等。本書適合液晶