《膜技術與膜制備基礎》從社會需求出發(fā)，對水處理膜、氣體分離膜、膜蒸餾膜、滲透汽化膜等涉及的傳質(zhì)機理、膜材料、膜結構特征、制膜方法和膜組件、膜裝置的設計應用與污染控制進行了全面詳細的介紹，總結了每種膜分離技術的工業(yè)應用。本書從每項膜技術的源頭進行介紹，使讀者通過了解膜技術的發(fā)展歷史，抓住膜技術的發(fā)展規(guī)律。本書可作為從事膜

本書系統(tǒng)、全面地闡述了微弧氧化涂層技術的發(fā)展歷史、技術機理、工藝與特性、功能涂層設計、生產(chǎn)線裝備及工程應用，是全面論述微弧氧化涂層的實用技術著作。全書共15章，涉及該領域近年來的主要研究熱點，包括微弧氧化涂層技術概論、微弧氧化過程機理、工藝參數(shù)與制度優(yōu)化、微弧氧化涂層基本特征、抗磨減摩涂層設計與應用、抗腐蝕涂層設計與應

《超硬材料薄膜的制備、性能與應用》由概論、性能及其影響因素、制備技術的多樣性、工程與功能應用、納米金剛石薄膜、類金剛石涂層、金剛石薄膜的特性表征與測試技術、理論模型與機制研究、立方氮化硼薄膜和總結與展望十個部分所構成。比如：金剛石薄膜的性能有金剛石薄膜的力學性能、金剛石薄膜的電學性能、金剛石薄膜的熱學性能、金剛石薄膜的

本書為《材料先進成型與加工技術叢書》之一。注塑加工中高分子經(jīng)歷壓力，流動和溫度場，從熔體到固體轉(zhuǎn)變過程中，最終凍結在制品中的多層次結構決定了制品性能。因此，認識注塑加工中高分子多層次微觀結構的生成規(guī)律，有利于指導注塑制品高性能化，提升加工效率，以及開發(fā)高性能注塑制品，也為與其他先進技術集成打下基礎。本書目的是讓讀者較為

本書綜合了國內(nèi)外薄膜光學和薄膜技術的研究內(nèi)容、體系，最新的薄膜技術與理論發(fā)展成就，及時將新技術融入本教材，針對相關專業(yè)特點，構建了全面且富有特色的內(nèi)容體系。在論述過程中注重基本概念的闡述，敘述深入淺出，注意原理與技術相聯(lián)系，理論與實踐相結合。全書共有8章。第1-4章，主要介紹薄膜光學的基本理論和特性設計與計算基礎，并著

金剛石作為第四代半導體材料，具有極其優(yōu)越的物理化學特性，在諸多高科技領域具有很好的應用前景。金剛石拋光技術的研究不但突破了金剛石在高科技領域的應用瓶頸，還帶動了一些新工藝、新方法和新技術的發(fā)展。本書以作者多年的科研成果為基礎，匯集國內(nèi)外金剛石領域的**進展，全面系統(tǒng)地對金剛石應用和拋光技術的重要成果進行了歸納和總結，內(nèi)

整書內(nèi)容分為三篇，共15章。第一篇即第1～6章，介紹熱障涂層的破壞理論，其中第1章和第2章分別介紹熱力化耦合的理論框架和非線性有限元理論，第3～6章分別介紹熱障涂層界面氧化、CMAS腐蝕、沖蝕熱力化耦合的破壞理論與機制。第二篇即第7～12章，介紹熱障涂層性能與損傷的表征技術，第7～9章凝練熱障涂層基本力學性能、斷裂韌性

現(xiàn)代半導體技術和先進材料研發(fā)的進步，促進薄膜材料和制備技術快速發(fā)展，要求薄膜制備技術和薄膜結構有精細控制，需要了解表面與薄膜方面的基本物理知識。本書著重介紹表面與薄膜相關的基本概念、基本原理，幫助理解掌握薄膜技術的基本知識，為工作和科研打下良好基礎。本書內(nèi)容包括真空物理基礎、表面科學基礎、薄膜物理基礎、薄膜生長技術、薄

本書從涂布液與涂布基材、涂布方式、干燥工藝、涂布輔助裝置、涂布液輸送、涂布模頭設計及潔凈環(huán)境建設等方面，描述了涂布復合質(zhì)量問題及其控制手段，介紹了部分弊病分析方法及在線監(jiān)控措施。

本書著眼于目前常用的PVD氮化物涂層在高溫環(huán)境下的摩擦學特性，模擬涂層使用的真實環(huán)境，分析了五種PVD氮化物涂層的制備、性能、高溫氧化特性，著重探討了PVD氮化物涂層的高溫摩擦磨損特性及磨損機理，總結了PVD氮化物涂層材料的研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢，從而為開發(fā)新的涂層材料提供有效的理論依據(jù)。本書可為機械領域和材料領域的工程技