1985年4月1日，《專利法》開始實(shí)施，標(biāo)志著我國(guó)專利制度正式建立。至今我國(guó)專利制度已經(jīng)走過(guò)近40年，在此期間，我國(guó)經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)生了巨大變化，科學(xué)技術(shù)不斷進(jìn)步。為了適應(yīng)國(guó)內(nèi)外形勢(shì)的變化，更好地促進(jìn)經(jīng)濟(jì)發(fā)展和科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步，我國(guó)先后于1992年、2000年、2008年、2020年四次修改《專利法》，于1992年、2001年、2002年、2010年、2023年五次修改《專利法實(shí)施細(xì)則》。與《專利法》《專利法實(shí)施細(xì)則》初施行時(shí)相比，多次修改后的《專利法》《專利法實(shí)施細(xì)則》已經(jīng)發(fā)生了巨大變化。為了使讀者清楚、詳細(xì)地了解我國(guó)專利法律制度的發(fā)展歷程，本社組織力量編寫了本對(duì)照本。

本書中的各版本《專利法》《專利法實(shí)施細(xì)則》均來(lái)自相應(yīng)的《中華人民共和國(guó)全國(guó)人民代表大會(huì)常務(wù)委員會(huì)公報(bào)》《中華人民共和國(guó)國(guó)務(wù)院公報(bào)》。鑒于2002年12月28日的修訂僅為2001年版本《專利法實(shí)施細(xì)則》的2條規(guī)定表述微調(diào),故本對(duì)照本選取2001年修訂后重新公布的《專利法實(shí)施細(xì)則》文本。
為了使本對(duì)照本對(duì)照清晰、方便閱讀，編者參考了大量資料，從歷次的修改情況、條文編排形式、開本與裝幀設(shè)計(jì)等方面，對(duì)本對(duì)照本作了綜合考慮，以求在內(nèi)容和形式上都做到讓讀者滿意。具體而言，本對(duì)照本具有如下兩個(gè)特點(diǎn)：第一，條文對(duì)照，即每次修改的條文與前次的相關(guān)條文對(duì)照，以便讀者了解《專利法》《專利法實(shí)施細(xì)則》中具體規(guī)定的變化;第二，將條文中作出修改的內(nèi)容的字體變?yōu)楹隗w，讓讀者更方便看出哪些是修改內(nèi)容，便于對(duì)照。
由于編者的水平和能力有限，掌握的文獻(xiàn)資料有限并且對(duì)文獻(xiàn)資料的理解還不夠全面，難免有疏漏和不足之處，懇請(qǐng)專家和廣大讀者批評(píng)指正！