本書內(nèi)容以脆性光學元件原子級超光滑加工為應用背景，提出了脆性光學元件彈性域超光滑加工方法，對光學材料彈性域去除機理展開了全面深入的研究。書稿具有較高的學術(shù)價值，作者的研究方法，過程和結(jié)果對同行業(yè)研究者具有借鑒意義和參考價值，是一部值得出版的學術(shù)著作。隨著光學和微電子學領(lǐng)域及其相關(guān)學科的發(fā)展對超光滑表面的需求量越來越大，同時加工要求也越來越高，不但要求達到原子級的超光滑表面，同時要求加工表面具有優(yōu)良的完整性。為滿足現(xiàn)代科技發(fā)展對超光滑表面提出的嚴格要求，本書針對光學元件的彈性域去除機理展開全面系統(tǒng)的研究，探索如何獲取原子級超光滑表面。本書研究可為流體動壓超光滑加工在實際應用中的推廣奠定基礎(chǔ)。